99.95-99.99%min Cerium Nitrate Featured Image

99,95–99,99%min tseeriumnitraat

Lühike kirjeldus:

Valem:Ce(NO3)3,6H2O
CAS nr:10294-41-4
Molekulmass:434.12
Tihedus:N/A
Sulamispunkt:96℃
Välimus:Valged kristalsed agregaadid
Lahustuvus:Vees ja tugevates mineraalhapetes lahustuv
Stabiilsus:Kergesti hügroskoopne
Mitmekeelne:hind tseerium (iii) nitraatheksahüdraat, Nitrate De Cerium, Nitrato Del Ceri

Saada meile e-kiri

Toote üksikasjad

Tootesildid

Põhiandmed:

Päritolukoht: Anhui Hiina (mandriosa) Kaubamärk: FITECH

Mudelinumber:F-Ce(NO3)3.6H2O Koostis:tseerium

Toote tüüp: haruldaste muldmetallide pulbri sisaldus (protsentides): 99,95%

Kasutamine: volframi ja molübdeeni toodete jaoks, mida kasutatakse volframi ja molübdeeni toodete jaoks, kolmekomponentne katalüsaator

Klass: tseeriumnitraat Kuju: värvitud granuleeritud kristallid

CAS nr:10294-41-4 Püsivus: Vees lahustumatu, mõõdukalt

Välimus: valge kristalli proov: saadaval

Puhtus: 99,95% Värv: valge

Nimetus: 99,95% puhas tseeriumnitraat

Lahustuvus: vedeldav, vees kergesti lahustuv, etanoolis lahustuv

Kood	CH-3N	CH-3,5N	CH-4N
TREO%	≥39,5	≥39,5	≥39,5
Tseeriumi puhtus ja suhtelised haruldaste muldmetallide lisandid
CeO2/TREO %	≥99,9	≥99,95	≥ 99,99
La2O3/TREO %	≤0,05	≤0,02	≤0,004
Pr6O11/TREO %	≤0,02	≤0,01	≤0,002
Nd2O3/TREO%	≤0,02	≤0,01	≤0,001
Sm2O3/TREO %	≤0,005	≤0,005	≤0,001
Y2O3/TREO %	≤0,005	≤0,005	≤0,001
Mitteharuldased muldmetallid
Fe%	≤0,002	≤0,001	≤0,0005
SiO2 %	≤0,01	≤0,005	≤0,003
Ca %	≤0,01	≤0,005	≤0,0005
Pb %	≤0,001	≤0,001	≤0,0005
Cl- %	≤0,01	≤0,005	≤0,0005
SO 2 4- %	≤0,01	≤0,005	≤0,0005

Rakendus:

1. Cerium Nitrate on optimaalsed materjalid tseeriumiga legeeritud katalüsaatori tootmiseks ja seda kasutatakse ka automaatse marli katete valmistamisel.

2. Tseeriumi lisatakse stüreeni parandamiseks metüülbenseenist stüreeni tootmisel domineerivale katalüsaatorile
moodustamine.
3. Seda kasutatakse tseoliite sisaldavates FCC katalüsaatorites, et tagada nii reaktoris katalüütiline reaktsioonivõime kui ka regeneraatoris termiline stabiilsus.
4. Terase tootmisel kasutatakse seda vaba hapniku ja väävli eemaldamiseks stabiilsete oksüsulfiidide moodustamise ja soovimatute mikroelementide (nt plii ja antimoni) sidumise teel.